2019巖土工程師《普通物理》考點：光的干涉

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一、光的干涉

1.相干光源：頻率相同, 振動方向相同,位相差恒定的兩個光源。

2.獲得相干光的途徑(方法)

提高光源質(zhì)量

如采用激光器可獲得單色性很好的光---相干光源

對普通光源:可將光源上一發(fā)光點的光分成兩束，

各經(jīng)歷不同的路徑再會合迭加。(同“成分”疊加)

3.明暗位置所滿足的條件

根據(jù)波動理

4. 光程與光程差

光程

光在某一媒質(zhì)中所經(jīng)歷的幾何路程 r與介質(zhì)折射率 n 的乘積 nr

兩同相的相干光源發(fā)出的兩相干光束，干涉條紋明暗條件由光程差確定

5.楊氏雙縫干涉

例：(2014考題)在空氣中用波長為l的單色光進行雙縫干涉實驗時，觀測到相鄰明條紋的間距為1.33mm,當把實驗裝置放入水中(水的折射率n=1.33)時，則相鄰明條紋的間距變?yōu)椋?/p>

A.1.33mm

B.2.66mm

C.1mm

D.2mm

答案：C

例3: 在雙縫干涉實驗中,用透明的云母片遮蓋上面一條縫,則

(A)干涉圖樣不變.

(B)干涉圖樣下移.

(C)干涉圖樣上移.

(D)不產(chǎn)生干涉條紋

考察O處零級明紋

6.薄膜干涉

垂直入射時光線1與光線2的光程差為半波損失

關于半波損失

光入射到光疏媒質(zhì)、光密媒質(zhì)界面時,反射光(在光疏媒質(zhì)中)將多走半個波長的路程,此稱半波損失

光入射到光密媒質(zhì)、光疏媒質(zhì)界面時,反射光(在光密媒質(zhì)中)無半波損失

7. 劈尖干涉

夾角很小的兩個平面所構(gòu)成的薄膜

(1)干涉條件

①用 e 指示條紋位置

②劈尖相當于厚度呈線性

變化的薄膜

③對于同一級干涉條紋，具有相同的介質(zhì)厚度

④對空氣劈尖 e=0處是暗紋

(2)空氣劈尖任意相鄰明條紋對應的厚度差

(3)任意相鄰明條紋(或暗條紋)之間的距離 l

8. 邁克耳孫干涉儀

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