2015年環(huán)境影響評(píng)價(jià)師《案例分析》考點(diǎn):項(xiàng)目工程概況與工程分析
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一、項(xiàng)目工程概況與工程分析
(一)項(xiàng)目背景
本項(xiàng)目擬建于北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)內(nèi)。擬建設(shè)8英寸(20.32cra)0.35~0.18gm芯片(月投片30000片);12英寸(30.48cm)先進(jìn)制程線,0.13-0.09gm芯片 (月投產(chǎn)3000片)。本項(xiàng)目建設(shè)期2年(2002-2003年,實(shí)際1.25年),試生產(chǎn)期2年,達(dá)產(chǎn)期4年,總投資為12.5億美元。
(二)項(xiàng)目概況
1.項(xiàng)目組成
本項(xiàng)目由生產(chǎn)設(shè)施、動(dòng)力設(shè)施、化學(xué)品設(shè)施、氣體設(shè)施、環(huán)保設(shè)施、安全衛(wèi)生設(shè)施、消防設(shè)施、管理服務(wù)設(shè)施以及相應(yīng)的建筑物組成。芯片項(xiàng)目組成見(jiàn)表1。
2. 總平面布置
廠區(qū)總平面效果見(jiàn)圖1.
二、環(huán)境概況
1.地理位置
廠址位于北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)(BDA)41、47號(hào)地塊,征地面積240030m2,其中41號(hào)地塊面積136754m2、47號(hào)地塊面積103 276m',見(jiàn)圖2。
2.環(huán)境質(zhì)量
本項(xiàng)目對(duì)芯片加工類的特征空氣污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物進(jìn)行了監(jiān)測(cè)。環(huán)境空氣監(jiān)測(cè)了氟化物、氯化氫、氨氣、氯氣、硫酸霧、非甲烷總烴共6 項(xiàng);地下水環(huán)境監(jiān)測(cè),W、B共2項(xiàng);土壤監(jiān)測(cè)了砷(As)、硼(B)、氟(F)和鎢(W)共4項(xiàng)。通過(guò)監(jiān)測(cè)結(jié)果可以看出環(huán)境本底較好,沒(méi)有超標(biāo)的污染項(xiàng)。
3.廠址選擇合理性分析
由于中國(guó)與發(fā)達(dá)國(guó)家相比,在關(guān)鍵技術(shù)如軟件、集成電路和新型元器件等方面相對(duì)落后,CPU芯片和存儲(chǔ)器的設(shè)計(jì)與制造能力薄弱,電訊、通訊市場(chǎng)將是首先受到入關(guān)沖擊的領(lǐng)域之一。因此,我國(guó)的信息產(chǎn)業(yè)政策中有很重要的一條,就是中國(guó)鼓勵(lì)外資進(jìn)入信息產(chǎn)業(yè),希望信息產(chǎn)業(yè)的外商投資企業(yè)進(jìn)一步提高技術(shù)檔次,擴(kuò)大投資規(guī)模。深亞微米工藝技術(shù)已是國(guó)際上的主流生產(chǎn)技術(shù),本項(xiàng)目的實(shí)施可以推廣在國(guó)內(nèi)微電子技術(shù)的升級(jí)發(fā)展,提高電子產(chǎn)品開(kāi)發(fā)、生產(chǎn),并會(huì)促進(jìn)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)走向國(guó)際。因此,該項(xiàng)目的性質(zhì)完全符合國(guó)家信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃和政策。本項(xiàng)目為高科技、高附加值的集成電路行業(yè),項(xiàng)目地址位于北京市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)內(nèi)。在北京市"十五"時(shí)期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的產(chǎn)業(yè)布局調(diào)整目標(biāo)中明確指出:"北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū):建設(shè)成北京現(xiàn)代制造業(yè)的窗口基地",該項(xiàng)目的選址符合北京市"十五" 時(shí)期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的產(chǎn)業(yè)布局,與加速發(fā)展高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展方向高度是一致的。根據(jù)本項(xiàng)目的規(guī)模,可以確信,本項(xiàng)目是實(shí)現(xiàn)北京市"十五"時(shí)期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的極其重要的項(xiàng)目之一。
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