2015年環(huán)保工程師基礎(chǔ)考點取向分析

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　　X射線衍射取向分析（環(huán)球網(wǎng)校環(huán)保工程師頻道提供取向分析復(fù)習(xí)資料）

　　包括測定單晶取向和多晶的結(jié)構(gòu)(見擇優(yōu)取向)。測定硅鋼片的取向就是一例。另外，為研究金屬的范性形變過程，如孿生、滑移、滑移面的轉(zhuǎn)動等，也與取向的測定有關(guān)。晶粒(嵌鑲塊)大小和微觀應(yīng)力的測定由衍射花樣的形狀和強度可計算晶粒和微應(yīng)力的大小。在形變和熱處理過程中這兩者有明顯變化，它直接影響材料的性能。

　　宏觀應(yīng)力的測定宏觀殘留應(yīng)力的方向和大小，直接影響機器零件的使用壽命。利用測量點陣平面在不同方向上的間距的變化，可計算出殘留應(yīng)力的大小和方向。

　　對晶體結(jié)構(gòu)不完整性的研究包括對層錯、位錯、原子靜態(tài)或動態(tài)地偏離平衡位置，短程有序，原子偏聚等方面的研究(見晶體缺陷)。

　　合金相變包括脫溶、有序無序轉(zhuǎn)變、母相新相的晶體學(xué)關(guān)系，等等。

　　結(jié)構(gòu)分析對新發(fā)現(xiàn)的合金相進行測定，確定點陣類型、點陣參數(shù)、對稱性、原子位置等晶體學(xué)數(shù)據(jù)。

　　液態(tài)金屬和非晶態(tài)金屬研究非晶態(tài)金屬和液態(tài)金屬結(jié)構(gòu)，如測定近程序參量、配位數(shù)等。

　　特殊狀態(tài)下的分析在高溫、低溫和瞬時的動態(tài)分析。

　　此外，小角度散射用于研究電子濃度不均勻區(qū)的形狀和大小，X射線形貌術(shù)用于研究近完整晶體中的缺陷如位錯線等，也得到了重視。

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